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G-26型高精密光刻機

簡介—— G-26型高精密光刻機 產品介紹:設備概述:本設備廣泛應用于進行批量生產的各大、中、小型企業,它主要用于中小規模集成電路

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G-26型高精密光刻機

產品介紹:

設備概述:

本設備廣泛應用于進行批量生產的各大、中、小型企業,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產,由于本機找平機構先進,找平力小、使本機不僅適合各型基片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

主要構成

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、高均勻性曝光頭、PLC電控系統、氣動系統、真空管路系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

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曝光頭及部件圖

主要功能特點

1. 適用范圍廣
適用于150X150mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2. 結構先進,分辨率高
具有三點式自動找平機構和可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構;具有真空掩膜版架、真空片吸盤,本機采用高均勻性的6LED專用曝光頭,非常理想三點式自動找平機構和穩定可靠的真空密著裝置,使本機的曝光分辨率大為提高。

3. 套刻精度高、速度快

采用版不動片動的下置式三層導軌對準方式,使導軌自重和受力方向保持一致,自動消 除間隙;承片臺升降采用無間隙滾珠直進導軌、氣動式Z軸升降機構和雙簧片微分離機構,使本機片對版在分離接觸時漂移特小,對準精度高,對準速度快,從而提高了版的復用率和產品的成品率。

4. 可靠性高
采用進口(日本產)電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的機械零件,使本機運行具有非常高的可靠性。
 5. 特設功能
除標準承片臺外,還可以為用戶定制專用承片臺,來解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

主要技術指標

1、曝光類型:單面;

2、曝光面積:150×150mm

3、曝光照度不均勻性:≤±3.5%

4、曝光強度:030mw/cm2可調;

5、紫外光束角:≤3?

6、紫外光中心波長:365nm(也可以配專用曝光頭實現g線、h線、I線的組合);

7、紫外光源壽命:≥2萬小時;

8、曝光分辨率:1μm

9、曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

10、顯微鏡掃描范圍:X ±15mm Y ±15mm

11、對準范圍:XY粗調±3mm,細調±0.3mmQ粗調±15°,細調±3°;

12、套刻精度:1μm

13、分離量;050μm可調;

14、接觸-分離漂移:≤1μm

15、曝光方式:接觸式曝光

16、找平方式:三點式自動找平;

17、顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡91X570X連續變倍(物鏡1.6X-10X連續變倍),雙物鏡距離可調范圍50mm100mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;

18、掩模版尺寸: 152×152mm

19、基片尺寸:≤Φ127mm(或者127×127mm);

20、基片厚度:≤5 mm

21、曝光定時:0999.9秒可調;


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