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G-43B4型簡易光刻機

簡介—— 一. 設備概述:G—43B4型密光刻機是根據市場需求研發的產品,通常情況下為Φ4",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可

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一. 設備概述:

G—43B4型密光刻機是根據市場需求研發的產品,通常情況下為Φ4",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻,它特別適用做一次光刻的產品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等。加之光均勻性好(Φ100mm范圍內≤±4%),所以大大提高了設備的光刻質量。

二、主要技術參數:

1. 操作方式:手動;

2. 曝光模式:接觸式曝光;

3. 曝光面積Φ4";

4. 紫外光源:g線(436nm)或i線(365nm);

5. 曝光分辨率:3um;

6. 曝光頭汞燈為GCQ350W型超高壓直流球形汞燈。

三.結構簡介:

G—43B4型光刻機主要由以下部份組成:

1、多點光源曝光頭:

曝光頭采用GCQ350W型超高壓直流球形汞燈,紫外光源:g線(436nm)或i線(365nm)非常有利于光刻,光的均勻性很好,不均勻性測量在Φ100mm范圍內≤±4%,冷卻方式為風冷(內裝排風扇)

2、電器控制系統:

1) 打開電源開關(面板上標“電源”開關),按汞燈按鈕,汞燈自然打開。待汞燈亮度正常后(一般需要15分鐘以上),可以進行如下操作。

2) 放基片到臺面上(注意放基片的位置和方向),然后放掩膜版到基片上(當然也要注意版放的位置和方向)。調整好你所需的曝光時間,按“曝光”按鈕進行曝光。




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